Proteus

フルチップのマスク合成

Proteusは、近接効果補正用のモデル構築、そのモデルを用いたフルチップでの近接効果補正、および補正前後のICレイアウト・パターン上の近接効果解析などを実施するための、包括的で高性能な環境を提供します。Proteusマスク合成製品は最先端のIDMおよびファウンドリに最適なツールとして長い実績があります。

Proteusパイプライン・テクノロジは、CPU使用率を最大化した、完全にコンカレントなテープアウト・フローを実現します。これは連続的な製造フローからの大きな飛躍です。連続的な製造フローでは、後工程を開始するにあたって、ポストOPC（光近接効果補正）の完全なデータベースが必要とされていました。Proteusは、フィールドベースのシミュレーションとフラッシュベースのシミュレーションの長所を兼ね備えたデュアル・ドメインのシミュレーション・エンジンを採用し、設計パターン密度の疎密に関わらず、いずれの設計においても、極めて高精度なOPC結果と開発期間の短縮を実現します。Proteusの処理のプログラム化とアプリケーションのモジュール化により、最良の柔軟性と、お客様の大切なIPの確実な保護を両立します。